微結晶シリコンドットの低温形成とメモリ素子への応用

微結晶シリコンドットの低温形成とメモリ素子への応用

ビケッショウ シリコンドット ノ テイオン ケイセイ ト メモリ ソシ エノ オウヨウ

向正人

生駒 : 奈良先端科学技術大学院大学, 2006.3

学位論文

巻号情報

No. 刷年 所在 請求記号 資料ID 貸出区分 状況 予約人数

1

R004063

2

  • [MS]2006(15)

禁帯出

詳細情報

刊年

2006

別書名

Low temperature fabrication of nano-crystalline silicon dots and application for memory devices

シリーズ名

奈良先端科学技術大学院大学物質創成科学研究科修士論文 ; 2006年3月

注記

学位記番号: 修第3474号

授与年月日: 2006/03/24

学位の種類: 修士(工学)

学生番号: 0431080

標題言語

日本語 (jpn)

本文言語

日本語 (jpn)

著者情報

向, 正人 (ムカイ, マサト)

件名

シリコンドット

フローティングゲート

低温形成

プラズマCVD