微結晶シリコンドットの低温形成とメモリ素子への応用

微結晶シリコンドットの低温形成とメモリ素子への応用

ビケッショウ シリコンドット ノ テイオン ケイセイ ト メモリ ソシ エノ オウヨウ

向正人

生駒 : 奈良先端科学技術大学院大学, 2006.3

Thesis / Diss.

Volume No.

No. Printing year Location Call Number Material ID Circulation class Status Waiting

1

R004063

2

  • [MS]2006(15)

Restricted

Details

Publication year

2006

Alternative title

Low temperature fabrication of nano-crystalline silicon dots and application for memory devices

Series title

奈良先端科学技術大学院大学物質創成科学研究科修士論文 ; 2006年3月

Note

学位記番号: 修第3474号

授与年月日: 2006/03/24

学位の種類: 修士(工学)

学生番号: 0431080

Country of publication

Japan

Title language

Japanese (jpn)

Language of texts

Japanese (jpn)

Author information

向, 正人 (ムカイ, マサト)

Subject

シリコンドット

フローティングゲート

低温形成

プラズマCVD