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Highly Reliable and Low Temperature Process for Amorphous Oxide Thin-Film Transistors toward Flexible Displays

Highly Reliable and Low Temperature Process for Amorphous Oxide Thin-Film Transistors toward Flexible Displays

Bermundo Juan Paolo Soria

生駒 : 奈良先端科学技術大学院大学, 2015.6

Thesis / Diss.

Volume No.

Total: 2
No. Printing year Location Call Number Material ID Circulation class Status Waiting

1

R012222

No. Printing year Location Call Number Material ID Circulation class Status Waiting

1

  • Abstract

R012230

Details

Publication year

2015

Alternative title

フレキシブルディスプレイ実現に向けた非晶質酸化物薄膜トランジスタの高信頼性実現と低温プロセス

Series title

奈良先端科学技術大学院大学物質創成科学研究科博士論文 ; 2015年6月

Note

学位記番号: 博第1285号

報告番号: 甲第1285号

学位授与年月日: 2015/06/25

学位の種類: 博士(工学)

学生番号: 1241206

Country of publication

Japan

Title language

English (eng)

Language of texts

English (eng)

Author information

Bermundo Juan Paolo Soria

Subject

Reliability

Amorphous IGZO

Passivation

Excimer Laser Annealing

Low Temperature Process

Polysilsesquioxane