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高性能酸化物薄膜トランジスタの実現に向けた熱劣化解析

高性能酸化物薄膜トランジスタの実現に向けた熱劣化解析

コウセイノウ サンカブツ ハクマク トランジスタ ノ ジツゲン ニ ムケタ ネツ レッカ カイセキ

浦川哲

生駒 : 奈良先端科学技術大学院大学, 2013.9

Thesis / Diss.

Volume No.

Total: 1
No. Printing year Location Call Number Material ID Circulation class Status Waiting

1

R010517

2

  • [MS]2013(16)

Restricted

Details

Publication year

2013

Alternative title

Thermal analysis of amorphous oxide thin-film transistor

Series title

奈良先端科学技術大学院大学物質創成科学研究科修士論文 ; 2013年9月

Note

学位記番号: 修第5898号

学位授与年月日: 2013/09/25

学位の種類: 修士(工学)

学生番号: 1231012

Country of publication

Japan

Title language

Japanese (jpn)

Language of texts

Japanese (jpn)

Author information

浦川, 哲 (ウラカワ, サトシ)

Subject

酸化物半導体

薄膜トランジスタ

発熱解析