高性能酸化物薄膜トランジスタの実現に向けた熱劣化解析

高性能酸化物薄膜トランジスタの実現に向けた熱劣化解析

コウセイノウ サンカブツ ハクマク トランジスタ ノ ジツゲン ニ ムケタ ネツ レッカ カイセキ

浦川哲

生駒 : 奈良先端科学技術大学院大学, 2013.9

学位論文

巻号情報

全1件
No. 刷年 所在 請求記号 資料ID 貸出区分 状況 予約人数

1

R010517

2

  • [MS]2013(16)

禁帯出

詳細情報

刊年

2013

別書名

Thermal analysis of amorphous oxide thin-film transistor

シリーズ名

奈良先端科学技術大学院大学物質創成科学研究科修士論文 ; 2013年9月

注記

学位記番号: 修第5898号

学位授与年月日: 2013/09/25

学位の種類: 修士(工学)

学生番号: 1231012

標題言語

日本語 (jpn)

本文言語

日本語 (jpn)

著者情報

浦川, 哲 (ウラカワ, サトシ)

件名

酸化物半導体

薄膜トランジスタ

発熱解析