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ゲート窒化絶縁膜を用いたアモルファスInGaZnO薄膜トランジスタの高信頼性化に関する研究

ゲート窒化絶縁膜を用いたアモルファスInGaZnO薄膜トランジスタの高信頼性化に関する研究

ゲート チッカ ゼツエンマク オ モチイタ アモルファス InGaZnO ハクマク トランジスタ ノ コウシンライセイカ ニ カンスル ケンキュウ

山崎はるか

生駒 : 奈良先端科学技術大学院大学, 2013.3

Thesis / Diss.

Volume No.

Total: 1
No. Printing year Location Call Number Material ID Circulation class Status Waiting

1

R009979

2

  • [MS]2013(14)

Restricted

Details

Publication year

2013

Alternative title

Highly reliable amorphous InGaZnO thin-film transistor using silicon nitride gate insulator

Series title

奈良先端科学技術大学院大学物質創成科学研究科修士論文 ; 2013年3月

Note

学位記番号: 修第5881号

学位授与年月日: 2013/3/22

学位の種類: 修士(工学)

学生番号: 1131091

Country of publication

Japan

Title language

Japanese (jpn)

Language of texts

Japanese (jpn)

Author information

山崎, ハルカ (ヤマザキ, ハルカ)

Subject

アモルファスInGaZnO

薄膜トランジスタ

ゲート絶縁膜

信頼性