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リン導入ゲート酸化膜を用いたシリコンカーバイド電界効果トランジスタにおける界面準位の解析

リン導入ゲート酸化膜を用いたシリコンカーバイド電界効果トランジスタにおける界面準位の解析

リン ドウニュウ ゲート サンカマク オ モチイタ シリコン カーバイド デンカイ コウカ トランジスタ ニ オケル カイメン ジュンイ ノ カイセキ

大澤愛

生駒 : 奈良先端科学技術大学院大学, 2013.3

Thesis / Diss.

Volume No.

Total: 1
No. Printing year Location Call Number Material ID Circulation class Status Waiting

1

R009912

2

  • [MS]2013(3)

Restricted

Details

Publication year

2013

Alternative title

Characterization of POCl3-annealed 4H-SiC MOSFETs by charge pumping technique

Series title

奈良先端科学技術大学院大学物質創成科学研究科修士論文 ; 2013年3月

Note

学位記番号: 修第5814号

学位授与年月日: 2013/3/22

学位の種類: 修士(工学)

学生番号: 1131012

Country of publication

Japan

Title language

Japanese (jpn)

Language of texts

Japanese (jpn)

Author information

大澤, 愛 (オオサワ, アイ)

Subject

MOSFET

POCl3

界面準位密度

チャージポンピング