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高性能薄膜トランジスタの実用化をめざした大粒径シリコン薄膜作製手法の研究

高性能薄膜トランジスタの実用化をめざした大粒径シリコン薄膜作製手法の研究

コウセイノウ ハクマク トランジスタ ノ ジツヨウカ オ メザシタ ダイリュウケイ シリコン ハクマク サクセイ シュホウ ノ ケンキュウ

平松雅人

生駒 : 奈良先端科学技術大学院大学, 2012.12

Thesis / Diss.

Volume No.

Total: 2
No. Printing year Location Call Number Material ID Circulation class Status Waiting

1

R009652

2

  • [MS]2012

Restricted

No. Printing year Location Call Number Material ID Circulation class Status Waiting

1

  • Abstract

R009655

Details

Publication year

2012

Alternative title

Study of Fabrication Method of Poly-Si Films with Large Grain-size for Practical Use of High-performance Thin Film Transisters

Series title

奈良先端科学技術大学院大学物質創成科学研究科博士論文 ; 2012年12月

Note

学位記番号: 博第1100号

報告番号: 甲第1100号

学位授与年月日: 2012/12/21

学位の種類: 博士(工学)

学生番号: 1141017

Country of publication

Japan

Title language

Japanese (jpn)

Language of texts

Japanese (jpn)

Author information

平松, 雅人 (ヒラマツ, マサト)

Subject

大粒径

ポリシリコン

薄膜トランジスタ

レーザ結晶化

位相変調法

高純度初期膜