高性能薄膜トランジスタの実用化をめざした大粒径シリコン薄膜作製手法の研究

高性能薄膜トランジスタの実用化をめざした大粒径シリコン薄膜作製手法の研究

コウセイノウ ハクマク トランジスタ ノ ジツヨウカ オ メザシタ ダイリュウケイ シリコン ハクマク サクセイ シュホウ ノ ケンキュウ

平松雅人

生駒 : 奈良先端科学技術大学院大学, 2012.12

学位論文

巻号情報

全2件
No. 刷年 所在 請求記号 資料ID 貸出区分 状況 予約人数

1

R009652

2

  • [MS]2012

禁帯出

No. 刷年 所在 請求記号 資料ID 貸出区分 状況 予約人数

1

  • Abstract

R009655

詳細情報

刊年

2012

別書名

Study of Fabrication Method of Poly-Si Films with Large Grain-size for Practical Use of High-performance Thin Film Transisters

シリーズ名

奈良先端科学技術大学院大学物質創成科学研究科博士論文 ; 2012年12月

注記

学位記番号: 博第1100号

報告番号: 甲第1100号

学位授与年月日: 2012/12/21

学位の種類: 博士(工学)

学生番号: 1141017

標題言語

日本語 (jpn)

本文言語

日本語 (jpn)

著者情報

平松, 雅人 (ヒラマツ, マサト)

件名

大粒径

ポリシリコン

薄膜トランジスタ

レーザ結晶化

位相変調法

高純度初期膜