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Niナノ粒子内包フェリチンを用いた多結晶Ge薄膜の低温形成

Niナノ粒子内包フェリチンを用いた多結晶Ge薄膜の低温形成

ニッケル ナノ リュウシ ナイホウ フェリチン オ モチイタ タ ケッショウ ゲルマニウム ハクマク ノ テイオン ケイセイ

今澤孝則

生駒 : 奈良先端科学技術大学院大学, 2011.3

Thesis / Diss.

Volume No.

Total: 1
No. Printing year Location Call Number Material ID Circulation class Status Waiting

1

R008469

2

  • [MS]2011(2)

Restricted

Details

Publication year

2011

Alternative title

Low-Temperature Formation of Polycrystalline Ge Thin Films using Ferritin with Ni Nanoparticles

Series title

奈良先端科学技術大学院大学物質創成科学研究科修士論文 ; 2011年3月

Note

学位記番号: 修第5140号

学位授与年月日: 2011/03/24

学位の種類: 修士(工学)

学生番号: 0931009

Country of publication

Japan

Title language

Japanese (jpn)

Language of texts

Japanese (jpn)

Author information

今澤, 孝則 (イマザワ, タカノリ)

Subject

薄膜トランジスタ

低温結晶化

ゲルマニウム

MILC

バイオナノプロセス