Niナノ粒子内包フェリチンを用いた多結晶Ge薄膜の低温形成

Niナノ粒子内包フェリチンを用いた多結晶Ge薄膜の低温形成

ニッケル ナノ リュウシ ナイホウ フェリチン オ モチイタ タ ケッショウ ゲルマニウム ハクマク ノ テイオン ケイセイ

今澤孝則

生駒 : 奈良先端科学技術大学院大学, 2011.3

学位論文

巻号情報

全1件
No. 刷年 所在 請求記号 資料ID 貸出区分 状況 予約人数

1

R008469

2

  • [MS]2011(2)

禁帯出

詳細情報

刊年

2011

別書名

Low-Temperature Formation of Polycrystalline Ge Thin Films using Ferritin with Ni Nanoparticles

シリーズ名

奈良先端科学技術大学院大学物質創成科学研究科修士論文 ; 2011年3月

注記

学位記番号: 修第5140号

学位授与年月日: 2011/03/24

学位の種類: 修士(工学)

学生番号: 0931009

標題言語

日本語 (jpn)

本文言語

日本語 (jpn)

著者情報

今澤, 孝則 (イマザワ, タカノリ)

件名

薄膜トランジスタ

低温結晶化

ゲルマニウム

MILC

バイオナノプロセス