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アルミナ基板を用いたチタン酸バリウムストロンチウム薄膜の作製と誘電特性の評価

アルミナ基板を用いたチタン酸バリウムストロンチウム薄膜の作製と誘電特性の評価

アルミナ キバン オ モチイタ チタンサン バリウム ストロンチウム ハクマク ノ サクセイ ト ユウデン トクセイ ノ ヒョウカ

川上悠太

生駒 : 奈良先端科学技術大学院大学, 2009.3

Thesis / Diss.

Volume No.

Total: 1
No. Printing year Location Call Number Material ID Circulation class Status Waiting

1

R006896

2

  • [MS]2009(4)

Restricted

Details

Publication year

2009

Alternative title

The fabrication of the barium strontium titanate film on the alumina substrate and the evaluation of their dielectric properties

Series title

奈良先端科学技術大学院大学物質創成科学研究科修士論文 ; 2009年3月

Note

学位記番号: 修第4468号

学位授与年月日: 2009/03/24

学位の種類: 修士(工学)

学生番号: 0731024

Country of publication

Japan

Title language

Japanese (jpn)

Language of texts

Japanese (jpn)

Author information

川上, 悠太 (カワカミ, ユウタ)

Subject

誘電体

薄膜

BST

マイクロ波デバイス

アルミナ基板

スパッタリング法