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カーボン面シリコンカーバイドを用いた金属-酸化膜-半導体デバイスの作製と電子物性解析

カーボン面シリコンカーバイドを用いた金属-酸化膜-半導体デバイスの作製と電子物性解析

カーボンメン シリコン カーバイド オ モチイタ キンゾク サンカマク ハンドウタイ デバイス ノ サクセイ ト デンシ ブッセイ カイセキ

大城ゆき

生駒 : 奈良先端科学技術大学院大学, 2009.3

Thesis / Diss.

Volume No.

Total: 1
No. Printing year Location Call Number Material ID Circulation class Status Waiting

1

R006885

2

  • [MS]2009(2)

Restricted

Details

Publication year

2009

Alternative title

Electrical properties of 4H-SiC MOS devices fabricated on C-face

Series title

奈良先端科学技術大学院大学物質創成科学研究科修士論文 ; 2009年3月

Note

学位記番号: 修第4457号

学位授与年月日: 2009/03/24

学位の種類: 修士(工学)

学生番号: 0731012

Country of publication

Japan

Title language

Japanese (jpn)

Language of texts

Japanese (jpn)

Author information

大城, ゆき (オオシロ, ユキ)

Subject

SiC

C-face

MOS

Nitridation

near-interface trap