カーボン面シリコンカーバイドを用いた金属-酸化膜-半導体デバイスの作製と電子物性解析

カーボン面シリコンカーバイドを用いた金属-酸化膜-半導体デバイスの作製と電子物性解析

カーボンメン シリコン カーバイド オ モチイタ キンゾク サンカマク ハンドウタイ デバイス ノ サクセイ ト デンシ ブッセイ カイセキ

大城ゆき

生駒 : 奈良先端科学技術大学院大学, 2009.3

学位論文

巻号情報

全1件
No. 刷年 所在 請求記号 資料ID 貸出区分 状況 予約人数

1

R006885

2

  • [MS]2009(2)

禁帯出

詳細情報

刊年

2009

別書名

Electrical properties of 4H-SiC MOS devices fabricated on C-face

シリーズ名

奈良先端科学技術大学院大学物質創成科学研究科修士論文 ; 2009年3月

注記

学位記番号: 修第4457号

学位授与年月日: 2009/03/24

学位の種類: 修士(工学)

学生番号: 0731012

標題言語

日本語 (jpn)

本文言語

日本語 (jpn)

著者情報

大城, ゆき (オオシロ, ユキ)

件名

SiC

C-face

MOS

Nitridation

near-interface trap