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低温多結晶シリコン薄膜トランジスタにおけるシリコン/酸化膜界面の改質による信頼性向上技術に関する研究

低温多結晶シリコン薄膜トランジスタにおけるシリコン/酸化膜界面の改質による信頼性向上技術に関する研究

テイオン タケッショウ シリコン ハクマク トランジスタ ニ オケル シリコン/サンカマク カイメン ノ カイシツ ニヨル シンライセイ コウジョウ ギジュツ ニ カンスル ケンキュウ

宮下誠

生駒 : 奈良先端科学技術大学院大学, 2006.3

Thesis / Diss.

Volume No.

Total: 1
No. Printing year Location Call Number Material ID Circulation class Status Waiting

1

R004062

2

  • [MS]2006(15)

Restricted

Details

Publication year

2006

Alternative title

Research about improvement reliability of low temperature poly silicon thin film transistor by improving silicon/oxide film interface

Series title

奈良先端科学技術大学院大学物質創成科学研究科修士論文 ; 2006年3月

Note

学位記番号: 修第3473号

授与年月日: 2006/03/24

学位の種類: 修士(工学)

学生番号: 0431079

Country of publication

Japan

Title language

Japanese (jpn)

Language of texts

Japanese (jpn)

Author information

宮下, 誠 (ミヤシタ, マコト)

Subject

シリコン/酸化膜界面

低温ポリシリコンTFT

ホットキャリア

ジュール熱

信頼性

絶縁膜