低温多結晶シリコン薄膜トランジスタにおけるシリコン/酸化膜界面の改質による信頼性向上技術に関する研究

低温多結晶シリコン薄膜トランジスタにおけるシリコン/酸化膜界面の改質による信頼性向上技術に関する研究

テイオン タケッショウ シリコン ハクマク トランジスタ ニ オケル シリコン/サンカマク カイメン ノ カイシツ ニヨル シンライセイ コウジョウ ギジュツ ニ カンスル ケンキュウ

宮下誠

生駒 : 奈良先端科学技術大学院大学, 2006.3

学位論文

巻号情報

全1件
No. 刷年 所在 請求記号 資料ID 貸出区分 状況 予約人数

1

R004062

2

  • [MS]2006(15)

禁帯出

詳細情報

刊年

2006

別書名

Research about improvement reliability of low temperature poly silicon thin film transistor by improving silicon/oxide film interface

シリーズ名

奈良先端科学技術大学院大学物質創成科学研究科修士論文 ; 2006年3月

注記

学位記番号: 修第3473号

授与年月日: 2006/03/24

学位の種類: 修士(工学)

学生番号: 0431079

標題言語

日本語 (jpn)

本文言語

日本語 (jpn)

著者情報

宮下, 誠 (ミヤシタ, マコト)

件名

シリコン/酸化膜界面

低温ポリシリコンTFT

ホットキャリア

ジュール熱

信頼性

絶縁膜