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原料ガス間欠供給法を用いて作製した薄膜多結晶シリコンの結晶欠陥評価と高品質化

原料ガス間欠供給法を用いて作製した薄膜多結晶シリコンの結晶欠陥評価と高品質化

ゲンリョウ ガス カンケツ キョウキュウホウ オ モチイテ サクセイシタ ハクマク タケッショウ シリコン ノ ケッショウ ケッカン ヒョウカ ト コウヒンシツカ

大鐘章義

生駒 : 奈良先端科学技術大学院大学, 2006.3

Thesis / Diss.

Volume No.

Total: 1
No. Printing year Location Call Number Material ID Circulation class Status Waiting

1

R004042

2

  • [MS]2006(2)

Restricted

Details

Publication year

2006

Alternative title

Analysis and modification of polycrystalline silicon thin films' crystallographic properties deposited by intermittent source gas supply

Series title

奈良先端科学技術大学院大学物質創成科学研究科修士論文 ; 2006年3月

Note

学位記番号: 修第3408号

授与年月日: 2006/03/24

学位の種類: 修士(工学)

学生番号: 0431008

Country of publication

Japan

Title language

Japanese (jpn)

Language of texts

Japanese (jpn)

Author information

大鐘, 章義 (オオガネ, アキヨシ)

Subject

シリコン

CVD

結晶欠陥

アニール