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X線リソグラフィにおけるマスク高精度化とレジストパターン形成メカニズムの解明

X線リソグラフィにおけるマスク高精度化とレジストパターン形成メカニズムの解明

エックスセン リソグラフィ ニ オケル マスク コウセイドカ ト レジスト パターン ケイセイ メカニズム ノ カイメイ

吉瀬幸司

生駒 : 奈良先端科学技術大学院大学, 2004.3

Thesis / Diss.

Volume No.

Total: 2
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1

  • [MS]2004

Restricted

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  • Abstract

R004757

Details

Publication year

2004

Series title

奈良先端科学技術大学院大学物質創成科学研究科博士論文 ; 2004年3月

Note

学位記番号: 博第425号

報告番号: 甲第425号

授与年月日: 2004/03/24

学位の種類: 博士(工学)

学生番号: 0341008

Country of publication

Japan

Title language

Japanese (jpn)

Language of texts

Japanese (jpn)

Author information

吉瀬, 幸司 (キセ, コウジ)

Subject

X線リソグラフィ

マスク

光電子

オージェ電子

レジスト

高精度