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X線リソグラフィにおけるマスクパターン欠陥の転写特性と解像性の向上に関する研究

X線リソグラフィにおけるマスクパターン欠陥の転写特性と解像性の向上に関する研究

エックスセン リソグラフィ ニ オケル マスク パターン ケッカン ノ テンシャ トクセイ ト カイゾウセイ ノ コウジョウ ニ カンスル ケンキュウ

渡邊寛

生駒 : 奈良先端科学技術大学院大学, 2004.3

Thesis / Diss.

Volume No.

Total: 2
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1

  • [MS]2004

Restricted

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  • Abstract

R004758

Details

Publication year

2004

Series title

奈良先端科学技術大学院大学物質創成科学研究科博士論文 ; 2004年3月

Note

学位記番号: 博第426号

報告番号: 甲第426号

授与年月日: 2004/03/24

学位の種類: 博士(工学)

学生番号: 0341026

Country of publication

Japan

Title language

Japanese (jpn)

Language of texts

Japanese (jpn)

Author information

渡邊, 寛 (ワタナベ, ヒロシ)

Subject

リソグラフィ

パターン

レジスト

X線

マスク

欠陥