• Top
  • Details (Local collection)
プラズマ援用化学的気相堆積法を用いて形成したSiナノドットへの電子注入

プラズマ援用化学的気相堆積法を用いて形成したSiナノドットへの電子注入

プラズマ エンヨウ カガクテキ キソウ タイセキホウ オ モチイテ ケイセイシタ Si ナノ ドット エノ デンシ チュウニュウ

猪飼順子

生駒 : 奈良先端科学技術大学院大学, 2004.3

Thesis / Diss.

Volume No.

Total: 1
No. Printing year Location Call Number Material ID Circulation class Status Waiting

1

R003058

2

  • [MS]2004(2)

Restricted

Details

Publication year

2004

Alternative title

Electron injection into Si nanometer-size sot fabricated with plasma enhanced chemical vapor deposition

Series title

奈良先端科学技術大学院大学物質創成科学研究科修士論文 ; 2004年3月

Note

学位記番号: 修第2710号

授与年月日: 2004/03/24

学生番号: 0231006

Country of publication

Japan

Title language

Japanese (jpn)

Language of texts

Japanese (jpn)

Author information

猪飼, 順子 (イカイ, ジュンコ)

Subject

Si nano dot

Floating gate

PECVD

Siナノドット

電子注入

フローティングゲート