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窒素励起活性種を用いたシリコン及び極薄酸化膜の低温改質と電子物性評価

窒素励起活性種を用いたシリコン及び極薄酸化膜の低温改質と電子物性評価

チッソ レイキ カッセイシュ オ モチイタ シリコン オヨビ ゴクハク サンカマク ノ テイオン カイシツ ト デンシ ブッセイ ヒョウカ

小西康之

生駒 : 奈良先端科学技術大学院大学, 2000.3

Thesis / Diss.

Volume No.

Total: 1
No. Printing year Location Call Number Material ID Circulation class Status Waiting

1

R001381

2

  • [MS]2000(8)

Restricted

Details

Publication year

2000

Series title

奈良先端科学技術大学院大学物質創成科学研究科修士論文 ; 2000年3月

Note

学位記番号: 修第1394号

授与年月日: 2000/03/24

学生番号: 9831046

Country of publication

Japan

Title language

Japanese (jpn)

Language of texts

Japanese (jpn)

Author information

小西, 康之 (コニシ, ヤスユキ)