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high-k BTO/PSX ゲート絶縁膜を用いた酸化物半導体薄膜トランジスタの性能評価

high-k BTO/PSX ゲート絶縁膜を用いた酸化物半導体薄膜トランジスタの性能評価

high-k BTO PSX ゲート ゼツエンマク オ モチイタ サンカブツ ハンドウタイ ハクマク トランジスタ ノ セイノウ ヒョウカ

安藤大晟

生駒 : 奈良先端科学技術大学院大学, 2023.3

Thesis / Diss.

Volume No.

Total: 1
No. Printing year Location Call Number Material ID Circulation class Status Waiting

1

R018292

Details

Publication year

2023

Alternative title

Performance evaluation of oxide semiconductors thin-film transistors with high-k hybrid Barium Titanate/Polysiloxane as gate insulator

Series title

奈良先端科学技術大学院大学先端科学技術研究科修士論文 ; 2023年3月

Note

学位記番号: 修第9316号

学位授与年月日: 2023/03/31

学位の種類: 修士(工学)

Country of publication

Japan

Title language

Japanese (jpn)

Language of texts

Japanese (jpn)

Author information

安藤, 大晟 (アンドウ, タイセイ)

Subject

ゲート絶縁膜