high-k BTO/PSX ゲート絶縁膜を用いた酸化物半導体薄膜トランジスタの性能評価

high-k BTO/PSX ゲート絶縁膜を用いた酸化物半導体薄膜トランジスタの性能評価

high-k BTO PSX ゲート ゼツエンマク オ モチイタ サンカブツ ハンドウタイ ハクマク トランジスタ ノ セイノウ ヒョウカ

安藤大晟

生駒 : 奈良先端科学技術大学院大学, 2023.3

学位論文

巻号情報

全1件
No. 刷年 所在 請求記号 資料ID 貸出区分 状況 予約人数

1

R018292

詳細情報

刊年

2023

別書名

Performance evaluation of oxide semiconductors thin-film transistors with high-k hybrid Barium Titanate/Polysiloxane as gate insulator

シリーズ名

奈良先端科学技術大学院大学先端科学技術研究科修士論文 ; 2023年3月

注記

学位記番号: 修第9316号

学位授与年月日: 2023/03/31

学位の種類: 修士(工学)

標題言語

日本語 (jpn)

本文言語

日本語 (jpn)

著者情報

安藤, 大晟 (アンドウ, タイセイ)

件名

ゲート絶縁膜