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光電子受容角を考慮したARXPSスペクトル解析によるスパッタMoS2表面酸化層の深さ方向組成分析

光電子受容角を考慮したARXPSスペクトル解析によるスパッタMoS2表面酸化層の深さ方向組成分析

コウデンシ ジュヨウカク オ コウリョシタ ARXPS スペクトル カイセキ ニ ヨル スパッタ MoS2 ヒョウメン サンカソウ ノ フカサ ホウコウ ソセイ ブンセキ

甲斐田侑弥

生駒 : 奈良先端科学技術大学院大学, 2022.3

Thesis / Diss.

Volume No.

Total: 1
No. Printing year Location Call Number Material ID Circulation class Status Waiting

1

R017903

Details

Publication year

2022

Alternative title

Depth profiling of surface oxide layer on sputtered MoS2 through quantitative analysis of ARXPS spectra considering effects of photoelectron acceptance angle

Series title

奈良先端科学技術大学院大学先端科学技術研究科修士論文 ; 2022年3月

Note

学位記番号: 修第8941号

学位授与年月日: 2022/03/31

学位の種類: 修士(工学)

Country of publication

Japan

Title language

Japanese (jpn)

Language of texts

Japanese (jpn)

Author information

甲斐田, 侑弥 (カイダ, ユウヤ)

Subject

角度分解X線光電子分光法

二硫化モリブデン

自然酸化膜

深さプロファイリング

光電子受容角

非弾性平均自由行程