光電子受容角を考慮したARXPSスペクトル解析によるスパッタMoS2表面酸化層の深さ方向組成分析

光電子受容角を考慮したARXPSスペクトル解析によるスパッタMoS2表面酸化層の深さ方向組成分析

コウデンシ ジュヨウカク オ コウリョシタ ARXPS スペクトル カイセキ ニ ヨル スパッタ MoS2 ヒョウメン サンカソウ ノ フカサ ホウコウ ソセイ ブンセキ

甲斐田侑弥

生駒 : 奈良先端科学技術大学院大学, 2022.3

学位論文

巻号情報

全1件
No. 刷年 所在 請求記号 資料ID 貸出区分 状況 予約人数

1

R017903

詳細情報

刊年

2022

別書名

Depth profiling of surface oxide layer on sputtered MoS2 through quantitative analysis of ARXPS spectra considering effects of photoelectron acceptance angle

シリーズ名

奈良先端科学技術大学院大学先端科学技術研究科修士論文 ; 2022年3月

注記

学位記番号: 修第8941号

学位授与年月日: 2022/03/31

学位の種類: 修士(工学)

標題言語

日本語 (jpn)

本文言語

日本語 (jpn)

著者情報

甲斐田, 侑弥 (カイダ, ユウヤ)

件名

角度分解X線光電子分光法

二硫化モリブデン

自然酸化膜

深さプロファイリング

光電子受容角

非弾性平均自由行程