詳細情報

刊年

2018

別書名

全溶液処理プロセスを目指した酸化物薄膜トランジスタの欠陥と元素分析

シリーズ名

奈良先端科学技術大学院大学物質創成科学研究科博士論文 ; 2018年3月

注記

学位記番号: 博第1555号

報告番号: 甲第1555号

学位授与年月日: 2018/03/23

学位の種類: 博士(工学)

学生番号: 1541029

標題言語

英語 (eng)

本文言語

英語 (eng)

著者情報

Kulchaisit, Chaiyanan

件名

oxide TFT

siloxane

a-IGZO

all-solution process

gate insulator

passivation layer