酸化膜/シリコンカーバイド界面にリンを局所的に導入したMOSデバイスの電気特性と信頼性評価

酸化膜/シリコンカーバイド界面にリンを局所的に導入したMOSデバイスの電気特性と信頼性評価

サンカマク/シリコン カーバイド カイメン ニ リン オ キョクショテキ ニ ドウニュウシタ MOS デバイス ノ デンキ トクセイ ト シンライセイ ヒョウカ

赤木剛

生駒 : 奈良先端科学技術大学院大学, 2013.3

学位論文

巻号情報

全1件
No. 刷年 所在 請求記号 資料ID 貸出区分 状況 予約人数

1

R009902

2

  • [MS]2013(1)

禁帯出

詳細情報

刊年

2013

別書名

Effect of Interfacial Localization of Phosphorus on Electrical Properties and Reliability of 4H-SiC MOS Devices

シリーズ名

奈良先端科学技術大学院大学物質創成科学研究科修士論文 ; 2013年3月

注記

学位記番号: 修第5804号

学位授与年月日: 2013/3/22

学位の種類: 修士(工学)

学生番号: 1131001

標題言語

日本語 (jpn)

本文言語

日本語 (jpn)

著者情報

赤木, 剛 (アカギ, ツヨシ)

件名

MOS

POCl3

界面準位密度

信頼性