プラズマ ゲンシソウ タイセキホウ オ モチイタ サンカ アエン トランジスタ ノ プロセス テイオンカ オヨビ コウセイノウカ ニ カンスル ケンキュウ
谷真衣
生駒 : 奈良先端科学技術大学院大学, 2012.3
学位論文2012
Research on production of low temperature and high performance ZnO thin film transistors by plasma assisted atomic layer deposition method
奈良先端科学技術大学院大学物質創成科学研究科修士論文 ; 2012年3月
学位記番号: 修第5512号
学位授与年月日: 2012/3/23
学位の種類: 修士(工学)
学生番号: 1031053
日本語 (jpn)
日本語 (jpn)
谷, 真衣 (タニ, マイ)
