グリーンレーザーを用いた積層シリコン薄膜の結晶化技術と三次元素子への応用

グリーンレーザーを用いた積層シリコン薄膜の結晶化技術と三次元素子への応用

グリーン レーザー オ モチイタ セキソウ シリコン ハクマク ノ ケッショウ カ ギジュツ ト サン ジゲン ソシ ヘ ノ オウヨウ

山下毅彦

生駒 : 奈良先端科学技術大学院大学, 2009.3

学位論文

巻号情報

全1件
No. 刷年 所在 請求記号 資料ID 貸出区分 状況 予約人数

1

R006960

2

  • [MS]2009(15)

禁帯出

詳細情報

刊年

2009

別書名

Green Laser Annealing Crystallization for Three-Dimensional Device Application

シリーズ名

奈良先端科学技術大学院大学物質創成科学研究科修士論文 ; 2009年3月

注記

学位記番号: 修第4532号

学位授与年月日: 2009/03/24

学位の種類: 修士(工学)

学生番号: 0731092

標題言語

日本語 (jpn)

本文言語

日本語 (jpn)

著者情報

山下, 毅彦 (ヤマシタ, タケヒコ)

件名

グリーンレーザーアニール

多結晶シリコン

結晶粒

薄膜トランジスタ

薄膜フォトダイオード

三次元素子