新規構造シリコン薄膜基板を用いたレーザー結晶化と薄膜トランジスタへの応用

新規構造シリコン薄膜基板を用いたレーザー結晶化と薄膜トランジスタへの応用

シンキ コウゾウ シリコン ハクマク キバン オ モチイタ レーザー ケッショウカ ト ハクマク トランジスタ エノ オウヨウ

菅原祐太

生駒 : 奈良先端科学技術大学院大学, 2006.3

学位論文

巻号情報

全1件
No. 刷年 所在 請求記号 資料ID 貸出区分 状況 予約人数

1

R004052

2

  • [MS]2006(8)

禁帯出

詳細情報

刊年

2006

別書名

Laser Crystallization of Silicon Thin Films with Novel Structures and It's Application to Thin Film Transistors

シリーズ名

奈良先端科学技術大学院大学物質創成科学研究科修士論文 ; 2006年3月

注記

学位記番号: 修第3439号

授与年月日: 2006/03/24

学位の種類: 修士(工学)

学生番号: 0431041

標題言語

日本語 (jpn)

本文言語

日本語 (jpn)

著者情報

菅原, 祐太 (スガワラ, ユウタ)

件名

シリコン

薄膜トランジスタ

レーザー結晶化

低温ポリシリコン