ヒョウメン サンカ GaN キバン ニ タイスル SiO 2 セイマク プロセス サイテキカ ト カイメン カイシツ キコウ ノ ヒョウカ
原田卓門
生駒 : 奈良先端科学技術大学院大学, 2023.3
学位論文2023
Optimization of SiO2 deposition process for oxidized GaN and evaluation of interface modification mechanism
奈良先端科学技術大学院大学先端科学技術研究科修士論文 ; 2023年3月
学位記番号: 修第9325号
学位授与年月日: 2023/03/31
学位の種類: 修士(工学)
日本語 (jpn)
日本語 (jpn)
原田, 卓門 (ハラダ, タクト)
