2　真空蒸着法 2.1　真空蒸着と基板 2.2　気体に関する基本的な法則と公式 2.2.1　ボイル・シャルルの法則 ： 圧力，分子数密度，エネルギー密度 2.2.2　気体分子とマクスウェルの速度分布則 2.2.3　気体分子の速さ 2.2.4　気体分子の流れ 2.2.5　平均自由行程 (mean free path ： mfp) 2.2.6　余弦法則と蒸発の方向分布 2.3　各種の蒸発法 2.3.1　真空蒸着装置の基本構成 2.3.2　抵抗加熱法 2.3.3　電子線加熱法 2.3.4　レーザー加熱法 2.4　蒸着の具体例 2.4.1　Ag，Cu，Al 2.4.2　合金蒸着 ： ラウルの法則 ： 多源蒸着法 2.4.3　化合物 ： MgF2 その他 2.4.4　分子線エピタクシー (MBE) 法 ： 超高真空と精密蒸発制御 2.4.5　イオンプレーティング 演習問題