熱エッチングによる4H型炭化珪素の高指数面形成と素子作製プロセスへの応用

熱エッチングによる4H型炭化珪素の高指数面形成と素子作製プロセスへの応用

ネツ エッチング ニ ヨル 4H ガタ タンカ ケイソ ノ コウシスウ メン ケイセイ ト ソシ サクセイ プロセス エノ オウヨウ

纐纈英典

生駒 : 奈良先端科学技術大学院大学, 2009.3

学位論文

巻号情報

No. 刷年 所在 請求記号 資料ID 貸出区分 状況 予約人数

1

R006900

2

  • [MS]2009(5)

禁帯出

詳細情報

刊年

2009

別書名

Formation of high-index planes in 4H-SiC by thermal etching and application to device process

シリーズ名

奈良先端科学技術大学院大学物質創成科学研究科修士論文 ; 2009年3月

注記

学位記番号: 修第4472号

学位授与年月日: 2009/03/24

学位の種類: 修士(工学)

学生番号: 0731028

標題言語

日本語 (jpn)

本文言語

日本語 (jpn)

著者情報

纐纈, 英典 (コウケツ, ヒデノリ)

件名

炭化珪素

SiC

熱エッチング

高指数面

微細加工

省エネ