サイズ・密度制御二次元ナノドット配列の作製とその電子注入評価, 要旨

サイズ・密度制御二次元ナノドット配列の作製とその電子注入評価, 要旨

サイズ ミツド セイギョ ニジゲン ナノドット ハイレツ ノ サクセイ ト ソノ デンシ チュウニュウ ヒョウカ

山田聖人

生駒 : 奈良先端科学技術大学院大学, 2007.9

学位論文

巻号情報

要旨
No. 刷年 所在 請求記号 資料ID 貸出区分 状況 予約人数

1

  • Abstract

R005821

詳細情報

刊年

2007

シリーズ名

奈良先端科学技術大学院大学物質創成科学研究科博士論文 ; 2007年9月

注記

学位記番号: 博第705号

報告番号: 甲第705号

授与年月日: 2007/09/28

学位の種類: 博士(理学)

学生番号: 0641018

標題言語

日本語 (jpn)

本文言語

日本語 (jpn)

著者情報

山田, 聖人 (ヤマダ, キヨヒト)

件名

バイオナノプロセス

フェリチン

ナノドット

MOSキャパシタ

フローティングナノドットゲートメモリ

不揮発性メモリ