X線リソグラフィにおけるマスク高精度化とレジストパターン形成メカニズムの解明, 要旨

X線リソグラフィにおけるマスク高精度化とレジストパターン形成メカニズムの解明, 要旨

エックスセン リソグラフィ ニ オケル マスク コウセイドカ ト レジスト パターン ケイセイ メカニズム ノ カイメイ

吉瀬幸司

生駒 : 奈良先端科学技術大学院大学, 2004.3

学位論文

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巻号情報

要旨
No. 刷年 所在 請求記号 資料ID 貸出区分 状況 予約人数

1

  • Abstract

R004757

詳細情報

刊年

2004

シリーズ名

奈良先端科学技術大学院大学物質創成科学研究科博士論文 ; 2004年3月

注記

学位記番号: 博第425号

報告番号: 甲第425号

授与年月日: 2004/03/24

学位の種類: 博士(工学)

学生番号: 0341008

標題言語

日本語 (jpn)

本文言語

日本語 (jpn)

著者情報

吉瀬, 幸司 (キセ, コウジ)

件名

X線リソグラフィ

マスク

光電子

オージェ電子

レジスト

高精度