Development of polycrystalline silicon thin film solar cells fabricated by atmospheric pressure chemical vapor deposition, 要旨

Development of polycrystalline silicon thin film solar cells fabricated by atmospheric pressure chemical vapor deposition, 要旨

Tsutomu Yamazaki

生駒 : 奈良先端科学技術大学院大学, 2005.3

学位論文

巻号情報

要旨
No. 刷年 所在 請求記号 資料ID 貸出区分 状況 予約人数

1

  • Abstract

R004833

詳細情報

刊年

2005

別書名

常圧熱化学的気相堆積法により作製した多結晶Si薄膜太陽電池の開発

シリーズ名

奈良先端科学技術大学院大学物質創成科学研究科博士論文 ; 2005年3月

注記

学位記番号: 博第501号

報告番号: 甲第501号

授与年月日: 2005/03/24

学位の種類: 博士(工学)

学生番号: 0241023

標題言語

英語 (eng)

本文言語

英語 (eng)

著者情報

山崎, 努 (ヤマザキ, ツトム)

件名

polycrystalline silicon

thin film

grain boundary

solar cell