電子線誘起電流法(EBIC法)を用いた4H-SiCエピタキシャル成長層の評価

電子線誘起電流法(EBIC法)を用いた4H-SiCエピタキシャル成長層の評価

デンシセン ユウキ デンリュウホウ オ モチイタ 4H-SiC エピタキシャル セイチョウソウ ノ ヒョウカ

二谷聰

生駒 : 奈良先端科学技術大学院大学, 2005.3

学位論文

巻号情報

No. 刷年 所在 請求記号 資料ID 貸出区分 状況 予約人数

1

R003494

2

  • [MS]2005(13)

禁帯出

詳細情報

刊年

2005

別書名

Characterization of 4H-SiC epilayer by Electron Beam Induced Current (EBIC) method

シリーズ名

奈良先端科学技術大学院大学物質創成科学研究科修士論文 ; 2005年3月

注記

学位記番号: 修第3120号

授与年月日: 2005/03/24

学生番号: 0331066

標題言語

日本語 (jpn)

本文言語

日本語 (jpn)

著者情報

二谷, 聰 (ニタニ, サトシ)

件名

SiC

EBIC

電子線誘起電流法

拡散長

欠陥