高圧水蒸気処理による高誘電率ハフニウム系絶縁膜の高品質化の研究

高圧水蒸気処理による高誘電率ハフニウム系絶縁膜の高品質化の研究

コウアツ スイジョウキ ショリ ニヨル コウ ユウデンリツ ハフニウムケイ ゼツエンマク ノ コウヒンシツカ ノ ケンキュウ

中村秀碁

生駒 : 奈良先端科学技術大学院大学, 2005.3

学位論文

巻号情報

No. 刷年 所在 請求記号 資料ID 貸出区分 状況 予約人数

1

R003492

2

  • [MS]2005(12)

禁帯出

詳細情報

刊年

2005

別書名

Study of making of hafnium dielectric film high-quality by high pressure vapor annealing

シリーズ名

奈良先端科学技術大学院大学物質創成科学研究科修士論文 ; 2005年3月

注記

学位記番号: 修第3115号

授与年月日: 2005/03/24

学生番号: 0331060

標題言語

日本語 (jpn)

本文言語

日本語 (jpn)

著者情報

中村, 秀碁 (ナカムラ, ヒデキ)

件名

HfSiO

Vapor annealing