Siナノクリスタルのサイズと成長領域の制御に関する研究

Siナノクリスタルのサイズと成長領域の制御に関する研究

Si ナノ クリスタル ノ サイズ ト セイチョウ リョウイキ ノ セイギョ ニ カンスル ケンキュウ

中間勇二

生駒 : 奈良先端科学技術大学院大学, 2005.3

Thesis / Diss.

Volume No.

No. Printing year Location Call Number Material ID Circulation class Status Waiting

1

R003490

2

  • [MS]2005(12)

Restricted

Details

Publication year

2005

Alternative title

Research on control of the growth domain and the size of a silicon nano crystal

Series title

奈良先端科学技術大学院大学物質創成科学研究科修士論文 ; 2005年3月

Note

学位記番号: 修第3113号

授与年月日: 2005/03/24

学生番号: 0331058

Country of publication

Japan

Title language

Japanese (jpn)

Language of texts

Japanese (jpn)

Author information

中間, 勇二 (ナカマ, ユウジ)

Subject

シリコンナノクリスタル

イオン注入法

レーザアニール

結晶核形成

イオン注入用マスク

イオン広がり