イオン注入法によるSiナノクリスタルの作製と制御

イオン注入法によるSiナノクリスタルの作製と制御

イオン チュウニュウホウ ニ ヨル Si ナノ クリスタル ノ サクセイ ト セイギョ

前田陽平

生駒 : 奈良先端科学技術大学院大学, 2004.3

Thesis / Diss.

Volume No.

No. Printing year Location Call Number Material ID Circulation class Status Waiting

1

R003119

2

  • [MS]2004(13)

Restricted

Details

Publication year

2004

Alternative title

Preparation and evaluation of silicon nanocrystals by ion implantation

Series title

奈良先端科学技術大学院大学物質創成科学研究科修士論文 ; 2004年3月

Note

学位記番号: 修第2771号

授与年月日: 2004/03/24

学生番号: 0231074

Country of publication

Japan

Title language

Japanese (jpn)

Language of texts

Japanese (jpn)

Author information

前田, 陽平 (マエダ, ヨウヘイ)

Subject

ナノクリスタル

量子ドット

Si

イオン注入

ナノプロセス

ルミネッセンス