酸化物薄膜作製のための液体充填平衡気化MOCVD法の開発

酸化物薄膜作製のための液体充填平衡気化MOCVD法の開発

サンカブツ ハクマク サクセイ ノ タメ ノ エキタイ ジュウテン ヘイコウ キカ MOCVDホウ ノ カイハツ

西ノ内正人

生駒 : 奈良先端科学技術大学院大学, 2004.3

Thesis / Diss.

Volume No.

No. Printing year Location Call Number Material ID Circulation class Status Waiting

1

R003100

2

  • [MS]2004(10)

Restricted

Details

Publication year

2004

Alternative title

Development of liquid charging equilibrium evaporated MOCVD for fabrication of oxide thin films

Series title

奈良先端科学技術大学院大学物質創成科学研究科修士論文 ; 2004年3月

Note

学位記番号: 修第2752号

授与年月日: 2004/03/24

学生番号: 0231054

Country of publication

Japan

Title language

Japanese (jpn)

Language of texts

Japanese (jpn)

Author information

西ノ内, 正人 (ニシノウチ, マサト)

Subject

液体充填平衡気化MOCVD

LCEE気化器

小口径オリフィス

コンダクタンス

ベース圧力

TiO2