ラジカル処理による酸化膜 : シリコンカーバイド界面改質と電子物性評価

ラジカル処理による酸化膜 : シリコンカーバイド界面改質と電子物性評価

ラジカル ショリ ニ ヨル サンカマク シリコン カーバイド カイメン カイシツ ト デンシ ブッセイ ヒョウカ

前山雄介

生駒 : 奈良先端科学技術大学院大学, 2002.3

Thesis / Diss.

Volume No.

No. Printing year Location Call Number Material ID Circulation class Status Waiting

1

R002347

2

  • [MS]2002(15)

Restricted

Details

Publication year

2002

Series title

奈良先端科学技術大学院大学物質創成科学研究科修士論文 ; 2002年3月

Note

学位記番号: 修第2092号

授与年月日: 2002/03/22

学生番号: 0031082

Country of publication

Japan

Title language

Japanese (jpn)

Language of texts

Japanese (jpn)

Author information

前山, 雄介 (マエヤマ, ユウスケ)