励起活性種を用いた極薄ゲートシリコン酸窒化膜の低温形成と界面物性評価

励起活性種を用いた極薄ゲートシリコン酸窒化膜の低温形成と界面物性評価

レイキ カッセイシュ ヲ モチイタ キョクハク ゲート シリコン サンチッカマク ノ テイオン ケイセイ ト カイメン ブッセイ ヒョウカ

笹田浩介

生駒 : 奈良先端科学技術大学院大学, 2002.3

Thesis / Diss.

Volume No.

No. Printing year Location Call Number Material ID Circulation class Status Waiting

1

R002314

2

  • [MS]2002(7)

Restricted

Details

Publication year

2002

Series title

奈良先端科学技術大学院大学物質創成科学研究科修士論文 ; 2002年3月

Note

学位記番号: 修第2057号

授与年月日: 2002/03/22

学生番号: 0031040

Country of publication

Japan

Title language

Japanese (jpn)

Language of texts

Japanese (jpn)

Author information

笹田, 浩介 (ササダ, コウスケ)