Si薄膜のレーザ結晶化における線状パターンに関する研究

Si薄膜のレーザ結晶化における線状パターンに関する研究

Si ハクマク ノ レーザ ケッショウカ ニ オケル センジョウ パターン ニ カンスル ケンキュウ

笹井陸杜

生駒 : 奈良先端科学技術大学院大学, 2024.3

Thesis / Diss.

Volume No.

No. Printing year Location Call Number Material ID Circulation class Status Waiting

1

R019057

Details

Publication year

2024

Alternative title

Research on Linear Patterns in Laser Crystallization of Si Thin Films

Series title

奈良先端科学技術大学院大学先端科学技術研究科修士論文 ; 2024年3月

Note

学位記番号: 修第9626号

学位授与年月日: 2024/03/31

学位の種類: 修士(工学)

Country of publication

Japan

Title language

Japanese (jpn)

Language of texts

Japanese (jpn)

Author information

笹井, 陸杜 (ササイ, リクト)

Subject

Si TFT

LTPS