Low Temperature Annealing Techniques for Solution Processed Amorphous Oxide Semiconductor Thin-film Transistors

Low Temperature Annealing Techniques for Solution Processed Amorphous Oxide Semiconductor Thin-film Transistors

Michael Paul Aquisay Jallorina

生駒 : 奈良先端科学技術大学院大学, 2019.6

学位論文

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巻号情報

No. 刷年 所在 請求記号 資料ID 貸出区分 状況 予約人数

1

R015728

詳細情報

刊年

2019

別書名

低温アニーリング技術による、溶液処理アモルファス酸化物半導体薄膜トランジスタ

シリーズ名

奈良先端科学技術大学院大学物質創成科学研究科博士論文 ; 2019年6月

注記

学位記番号: 博第1626号

報告番号: 甲第1626号

学位授与年月日: 2019/06/30

学位の種類: 博士(工学)

標題言語

英語 (eng)

本文言語

英語 (eng)

著者情報

Michael Paul Aquisay Jallorina

件名

Amorphous Oxide Semiconductors

Low Temperature Annealing

Channel Activation

Thin-film Transistors

Wet Annealing

Metal Oxides