長期埋植に向けた人工視覚用CMOSスマート電極デバイスの基本構造と作製プロセスに関する研究

長期埋植に向けた人工視覚用CMOSスマート電極デバイスの基本構造と作製プロセスに関する研究

チョウキ マイショク ニ ムケタ ジンコウ シカクヨウ CMOS スマート デンキョク デバイス ノ キホン コウゾウ ト サクセイ プロセス ニ カンスル ケンキュウ

寺田啓介

生駒 : 奈良先端科学技術大学院大学, 2019.3

学位論文

巻号情報

No. 刷年 所在 請求記号 資料ID 貸出区分 状況 予約人数

1

R015645

2

  • [MS]2018(9)

禁帯出

詳細情報

刊年

2019

別書名

Study on fabrication process of CMOS smart electrodes for retinal prosthesis toward chronic implantation

シリーズ名

奈良先端科学技術大学院大学物質創成科学研究科修士論文 ; 2019年3月

注記

学位記番号: 修第7950号

学位授与年月日: 2019/03/31

学位の種類: 修士(工学)

標題言語

日本語 (jpn)

本文言語

日本語 (jpn)

著者情報

寺田, 啓介 (テラダ, ケイスケ)

件名

人工視覚

STS方式

長期埋植

CMOS

作製プロセス

刺激電極デバイス