SiO2/SiC界面における窒素局所構造に関する研究, 要旨

SiO2/SiC界面における窒素局所構造に関する研究, 要旨

SiO2/SiC カイメン ニ オケル チッソ キョクショ コウゾウ ニ カンスル ケンキュウ

森大輔

生駒 : 奈良先端科学技術大学院大学, 2018.3

学位論文

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巻号情報

要旨
No. 刷年 所在 請求記号 資料ID 貸出区分 状況 予約人数

1

  • Abstract

R014396

詳細情報

刊年

2018

別書名

Investigation of Local Structures of Nitrogen atoms passivating SiO2/SiC interfaces

シリーズ名

奈良先端科学技術大学院大学物質創成科学研究科博士論文 ; 2018年3月

注記

学位記番号: 博第1563号

報告番号: 甲第1563号

学位授与年月日: 2018/03/23

学位の種類: 博士(工学)

学生番号: 1741013

標題言語

日本語 (jpn)

本文言語

日本語 (jpn)

著者情報

森, 大輔 (モリ, ダイスケ)

件名

SiC

界面

酸化膜

窒素