酸素活性種を用いた極薄Si酸化膜の低温形成とその電子物性解析

酸素活性種を用いた極薄Si酸化膜の低温形成とその電子物性解析

サンソ カッセイシュ オ モチイタ ゴクハク ケイソ サンカマク ノ テイオン ケイセイ ト ソノ デンシ ブッセイ カイセキ

西田直樹

生駒 : 奈良先端科学技術大学院大学, 2000.3

学位論文

巻号情報

No. 刷年 所在 請求記号 資料ID 貸出区分 状況 予約人数

1

R001409

2

  • [MS]2000(14)

禁帯出

詳細情報

刊年

2000

シリーズ名

奈良先端科学技術大学院大学物質創成科学研究科修士論文 ; 2000年3月

注記

学位記番号: 修第1423号

授与年月日: 2000/03/24

学生番号: 9831080

標題言語

日本語 (jpn)

本文言語

日本語 (jpn)

著者情報

西田, 直樹 (ニシダ, ナオキ)