レーザー アニール ニ ヨル シリコン ゲルマニウム セキソウ ハクマク ノ ドウジ ケッショウカ ニ カンスル ケンキュウ
山崎浩司
生駒 : 奈良先端科学技術大学院大学, 2014.3
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| No. | 刷年 | 所在 | 請求記号 | 資料ID | 貸出区分 | 状況 | 予約人数 |
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R010656 |
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2014
Simultaneous Crystallization of Double-Layered Silicon and Germanium Films Formed by Laser Annealing
奈良先端科学技術大学院大学物質創成科学研究科博士論文 ; 2014年3月
学位記番号: 博第1214号
報告番号: 甲第1214号
学位授与年月日: 2014/03/24
学位の種類: 博士(工学)
学生番号: 1141008
日本語 (jpn)
日本語 (jpn)
山崎, 浩司 (ヤマサキ, コウジ)
