プラズマ ゲンシソウ タイセキホウ オ モチイタ サンカ アエン トランジスタ ノ プロセス テイオンカ オヨビ コウセイノウカ ニ カンスル ケンキュウ
谷真衣
生駒 : 奈良先端科学技術大学院大学, 2012.3
Thesis / Diss.| No. | Printing year | Location | Call Number | Material ID | Circulation class | Status | Waiting |
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1 |
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R009231 |
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Restricted |
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2012
Research on production of low temperature and high performance ZnO thin film transistors by plasma assisted atomic layer deposition method
奈良先端科学技術大学院大学物質創成科学研究科修士論文 ; 2012年3月
学位記番号: 修第5512号
学位授与年月日: 2012/3/23
学位の種類: 修士(工学)
学生番号: 1031053
Japan
Japanese (jpn)
Japanese (jpn)
谷, 真衣 (タニ, マイ)
